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簡要描述：美國 AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空 陰極唐：I582I984229
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2024-10-28訪 問 量：109
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詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,電氣,綜合 |
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美國 AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空
美國 AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空
美國 AP TECH,電子源,熱離子發(fā)射器 （TE）,陰極,六硼化鑭 （LaB6）,六硼化鈰 （CeBix®） 的 Sl.均 LaB6,CeBix®
數(shù)十年的研究、開發(fā)和電子源制造，對電子發(fā)射物理學(xué)的深入了解使其成為商用熱敏、場發(fā)射和熱場發(fā)射陰極生產(chǎn)商，這些產(chǎn)品用于顯微鏡、微量分析、X 射線生成、光刻、增材制造或任何其他需要高亮度源的電子束應(yīng)用。
在熱離子狀態(tài)下工作的陰極被加熱到高溫。當電子有足夠的熱能來克服制造陰極的材料的功函數(shù)時，就會發(fā)生發(fā)射。
我們的熱離子陰極由六硼化鑭 （LaB6） 和六硼化鈰 （CeBix®） 的 Sl.均 LaB6和 CeBix® 是低功函數(shù)材料，可生產(chǎn)相對高亮度的陰極，有適度的真空要求和較長的保質(zhì)期。這些陰極可在高達 20 A/cm 的電流密度下提供長期、穩(wěn)定的運行2，使其成為 SEM、TEM、電子束滅菌、表面分析和計量等小光斑應(yīng)用以及 X 射線生成、光刻和增材制造等大電流應(yīng)用的理想選擇。
在 APT，制造自己的高質(zhì)量單晶 LaB6和 CeBix® 內(nèi)部使用一種工藝，生產(chǎn)市面上純凈和低的功函數(shù)材料。精煉后，硼化物可以定制成各種形狀，具有不同的加熱、安裝和底座配置，所有這些都旨在滿足客戶的操作和性能要求。
功函數(shù)略低于 LaB6，CeBix® 陰極在略低的工作溫度下產(chǎn)生更高的電流。因此，CeBix® 源的亮度略高，使用壽命更長。APT 是CeBix® 陰極商業(yè)生產(chǎn)商。
還可以提供 LaB6和 CeBix® 單晶棒和圓盤
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